晶体温控炉

晶体温控炉

晶体温控炉主要用于大能量激光器中LBO晶体的高精度温度控制,其与高精度温控仪协同工作,可实现高达±0.005℃的温度稳定性。该装置集成位置与角度调节功能,支持晶体安装位置的精密调整。其自带旋转调节功能,无需借助外部机械结构,即能够实现高度与角度的自适应调节,具有较强的适应性与灵活性,可满足多种应用场景下使用。

产品特点

 转台导冷型的温控炉可支持晶体高度和角度的适应性二维调整;

 晶体尺寸适应范围宽,可支持10mm*10mm-18mm*18mm;

 预装温度传感器与TEC制冷片,可定制控温精度、散热功率。

产品指标

指标参数
产品类型 导冷型 风冷型
外形尺寸    L*W*H=51mm*51mm*53mm  L*W*H=51mm*51mm*57mm
晶体尺寸(mm) 10*10*12 / 12*12*16 / 15*15*12 / 18*18*10
TEC规格8A/10V 8A/10V
控温精度±0.005℃@25℃±0.005℃@25℃
NTC规格10K 0.5%/B值:3950K   10K 0.5%/B值:3950K   
控温功率 ≤0.5W ≤3.5W
接口DB9DB9
风扇规格/12V/0.2A


应用领域

适用于大能量超快激光器、非线性光学等。


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